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當(dāng)前位置:德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司>>產(chǎn)品展示>>Thin Film薄膜沉積系統(tǒng)
PECVD沉積可選配一個(gè)三極管(Triode)或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子,從而控制薄膜應(yīng)力。
Trion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
GSC-1000磁控濺射系統(tǒng)概述:帶有水冷或者加熱(高可加熱到700度)功能,大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),大可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)1...
Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)可以在緊湊的平臺(tái)上生產(chǎn)高品質(zhì)的薄膜。*的反應(yīng)器設(shè)計(jì)可以在在極低的功率生產(chǎn)具有優(yōu)異臺(tái)階覆蓋的低應(yīng)力薄膜。該系...
德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)專門(mén)為大學(xué),研究機(jī)構(gòu)提供了一系列高真空/超高真空桌面型熱蒸發(fā)鍍膜工藝平臺(tái)。
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